第277章 EUV光刻机与DUV光刻机！

当然，此时的绝大部分记者们并不知道如果想要生产90纳米和65纳米芯片。

    其实不一定需要采用第5代浸没式光刻机技术，直接研发采用第四代的ArF干式光刻机技术也行。

    因为第四代的ArF干式光刻机的光源波长是193nm，这193nm光源波长理论上最高是能生产65纳米芯片的。

    但做事不能考

    《大国科技从山寨开始》第277章 EUV光刻机与dUV光刻机！ 正在手打中，请稍等片刻，

    内容更新后，请重新刷新页面，即可获取最新更新！